日程： 2016年　2/6，2/20，3/5，3/12，4/2，4/16，5/7，5/14

時間： 13：00～17：00（4時間）

会場： NEiSHアトリエ

　　　新宿から： 丸の内線　新中野駅　徒歩7分

　　　荻窪から： 丸の内線　東高円寺駅　徒歩8分

　　    JR中野駅から：徒歩20分

　　    JR中野駅から：バス利用

　　　京王バス　渋63　渋谷駅行　杉山公園下車　徒歩7分

　　　京王バス　宿45　新宿駅西口行　杉山公園下車　徒歩7分

募集人数： 各回 2~4名 （定員になり次第、締め切らせていただきます）

受講料： 各回　￥10,800（￥10,000＋税）

　　　　※紙、シーチングなどの設備費含む

持ち物： 作図用具など

対象者： 現職のパターンメーカーの方、経験者

　　　　　  服飾専門学校及び短大・高校などの服飾科で学んだ方

カリキュラム

2016年